談起芯片就繞不開一個詞——光刻機。有人說制造一臺先進的光刻機比造一顆原子彈還難，而談起光刻機就繞不開ASML（阿斯麥），先進EUA光刻機唯一供應(yīng)商。
身為光刻機之王，ASML的崛起之路并不平坦。
第一次光刻機大戰(zhàn)：稱霸的美國人
1904年，弗萊明發(fā)明了真空二極管，標(biāo)志著人類進入電子時代；
1947年，貝爾實驗室三人組發(fā)明了晶體管，這一偉大的發(fā)明改變了人類歷史，晶體管的發(fā)明引發(fā)了電信和電腦等各方面的革命，隨之取代了真空管的地位。晶體管是所有電子產(chǎn)品的細(xì)胞，現(xiàn)代電腦芯片上有上億個微小的晶體管。
1959年，集成電路誕生。同年，傳奇公司GCA收購了David Mann；而在1961年David Mann推出了世界上第一臺光刻機——971型，這臺光刻機完全能夠滿足當(dāng)時晶體管的制造水平，IBM、太平洋半導(dǎo)體、IT以及飛利浦都在使用這款光刻機。
不少企業(yè)都想復(fù)制David Mann的成功，于是紛紛踏入光刻機市場，競爭變得激烈。盡管如此，當(dāng)年的光刻機市場還是很小，當(dāng)時市面上只有兩種光刻機：接觸式光刻機和漸進式光刻機，這兩種光刻機生產(chǎn)的芯片良率很低，因此芯片價格極高。
1974年，在美國軍方的支持下，Perkins Elmer推出了劃時代的光刻機——Micralign 100。光刻技術(shù)進入了投影式時代。芯片良率大幅度提升，芯片價格隨之降低，英特爾、IT的訂單也隨之而來，Perkins Elmer成了當(dāng)時最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。
隨著芯片制程縮小，Perkins Elmer遲遲沒有開始下一代光刻機的研發(fā)，GCA憑著首臺搭載自動化硅片工件臺的步進式光刻機——DSW 4800奪回市場，尼康和佳能也后來居上。
80年代之前，光刻機的競爭主要圍繞美國幾個廠商間進行展開，美國人賺了第一桶金。
第二次光刻機大戰(zhàn)：逆襲的日本人
在美國的廠商們正激烈競爭時，日本廠商悄然崛起。
1980年，尼康通過山寨GCA的光刻機，成功推出了自己的首臺步進式光刻機，隨后在日本電氣和東芝的加持下，尼康不斷迭代更新技術(shù)，在1982年成功把光刻機賣給了IBM和IT。
尼康的NSR-1010G
外有尼康的競爭，內(nèi)有光刻機產(chǎn)能問題，1984年GCA的出貨量被尼康打平。同年，佳能也推出了自己的首款步進式光刻機FPA-1500FA。
僅一年時間，尼康正式超過GCA，成為全球第一大光刻機供應(yīng)商。
第三次光刻機大戰(zhàn)：崛起的歐洲人
在日美廠商競爭白熱化的時候，歐洲也開始搞光刻機了。
飛利浦是歐洲最先研發(fā)光刻機的，1984年4月1日ASML脫胎飛利浦正式成立，但是在成立之后的10年間，ASML都不曾盈利。ASML第一任CEO賈特·斯密特決定開發(fā)新一代采用電動晶圓臺的光刻機——PAS 2500。敢于挑戰(zhàn)，重視創(chuàng)新，通力合作，ASML推開了光刻機世界的大門！
1986年，ASML開始與蔡司進行深入合作，改進光刻機光學(xué)系統(tǒng)，推出第二代PAS 2500，并第一次賣給了當(dāng)時還是初創(chuàng)公司的Cypress。與日本相比，ASML的光刻機還是不好賣，就連飛利浦都沒能拯救ASML，這時，臺積電來了。
時勢造英雄，兩個默默無聞的公司因飛利浦MEGA項目的失敗相遇了。1988年，臺積電的17臺光刻機訂單讓ASML勉強度過難關(guān)，讓ASML有精力繼續(xù)研究光刻機。于是ASML歷史上劃時代的作品誕生：PAS 5500，ASML翻身之作。1991年，ASML幾經(jīng)波折爭取到了IBM的訂單，有IBM在前驗證，ASML的光刻機的實力被更多廠商肯定，三星、海力士的訂單隨之而來。1995年3月14日，ASML在美國納斯達(dá)克成功上市。
與尼康的世紀(jì)之戰(zhàn)即將打響！
一代設(shè)備，一代工藝。本世紀(jì)初，光刻機的波長來到157nm，尼康一直在光源上做文章，專注于對157nm技術(shù)的研發(fā)，結(jié)果不盡人意。而ASML放棄了157nm，在臺積電的支持下，轉(zhuǎn)投其他新技術(shù)。2004年，ASML正式推出浸沒式光刻機的原型機；2006年，ASML的XT 1400i進入英特爾并順利通過40nm工藝的驗證，其余廠商紛紛選擇ASML的光刻機，尼康推出的157nm的光刻機無人問津。
ASML的第一臺浸潤式光刻機XT 1400i
2009年，ASML擁有近7成的市場份額，遠(yuǎn)超對手尼康。2010年，ASML誕生出人類第一臺EUV工程樣機：NXE 3100，2012年收購Cymer，加大對EUV的研發(fā)力度，2018年，正式商用版的EUV光刻機NXE 3300開始出貨。
本次光刻機之戰(zhàn)，尼康落敗，ASML開啟封王之路。光刻機領(lǐng)域，ASML占到90%以上。
芯片制程縮小至3nm，對EUA光刻技術(shù)的要求會更加嚴(yán)苛，新技術(shù)還得看ASML。
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